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近期我司抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機 抗黏劑氣相沉積系統(tǒng)再次進入科研系統(tǒng)。

    科研系統(tǒng)主要研究領(lǐng)域及學(xué)科方向包括光電跟蹤測量、光束控制、自適應(yīng)光學(xué)、天文目標光電觀測與識別、先進光學(xué)制造、航空航天光電設(shè)備、微納光學(xué)及微電子光學(xué)、生物醫(yī)學(xué)光學(xué)等。建有微細加工光學(xué)技術(shù)國家重點實驗室、中國科學(xué)院光束控制重點實驗室、中國科學(xué)院自適應(yīng)光學(xué)重點實驗室、中國科學(xué)院空間光電精密測量技術(shù)重點實驗室，和光電工程總體研究室等10個創(chuàng)新研究室，以及中科院成都幾何量及光電精密機械測試實驗室；還建有精密機械制造、先進光學(xué)研制、輕量化鏡坯研制、光學(xué)工程總體集成、質(zhì)量檢測等5個研制中心，以及科技信息中心等技術(shù)保障中心。目前承擔有國家重點研發(fā)計劃、自然科學(xué)基金、部委重大重點項目及企業(yè)委托開發(fā)項目研究，研究水平居國內(nèi)領(lǐng)先或國際先進。

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  抗黏劑氣相沉積系統(tǒng)

    硅烷偶聯(lián)劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機硅化合物，在材料表面改性、復(fù)合材料增強、涂層制備等眾多領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。

應(yīng)用領(lǐng)域： 半導(dǎo)體：晶圓光刻前疏水性處理、掩膜板疏水性處理、LED芯片工藝、藍寶石、貴金屬、硅片、磷化銦lnP、砷化鎵GaAs、鈮酸鋰LiNbO?、硫化鋅ZnS、掩膜版、玻璃、石英片、藍寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導(dǎo)體材料等。平板顯示器：用于大規(guī)模生產(chǎn)高性能顯示面板。 太陽能電池：提高薄膜太陽能電池的生產(chǎn)效率和性能。航空航天新材料：陶瓷纖維板材疏水性處理。手機平板：抗指紋、防水處理等。納米壓印：納米壓印脫模階段。

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  氣相沉積系統(tǒng)性能

內(nèi)部容積： 20-5000L

材質(zhì)： 外箱冷軋板烤漆或優(yōu)質(zhì)SUS#304不銹鋼，內(nèi)腔采用316L醫(yī)用不銹鋼

控制方式：人機界面+PLC

溫度范圍 ：RT-450℃

波動度 ：≤±0.5

真空度： ≤1torr

電源及總功率 ：220V/380V   

真空泵 ：無油泵

半導(dǎo)體設(shè)備廠商上海雋思儀器，硅烷氣相沉積設(shè)備、精密熱板、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)烘箱、智能型HMDS真空預(yù)處理系統(tǒng)烘箱、MSD超低濕烘箱、無塵烘箱、潔凈烘箱，氮氣烘箱、無氧烘箱、無塵無氧烘箱、真空烘箱、真空儲存柜、超低溫試驗箱、超低濕試驗箱等環(huán)境可靠性設(shè)備。