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高溫無氧烘箱在濕敏薄膜制作工藝的應用
來源: | 作者:雋思半導體設備部 | 發(fā)布時間: 2022-05-28 | 923 次瀏覽 | 分享到:

高溫無氧烘箱在濕敏薄膜制作工藝的應用

  在聚酰亞胺(polymide, PI)柔性襯底上制作濕度傳感器,PI是常見的柔性傳感器基底材料,具有化學性質(zhì)穩(wěn)定、耐高溫、與電極材料結合力好的優(yōu)點。加工方法為將基底溶液聚酰胺酸懸涂在制備有犧牲層的載體硅片上,采用MEMS工藝制作濕度敏感單元,本文制作的濕度傳感器采用“三明治”結構,包括上電極、感濕層和下電極,上下電極均采用蒸鍍工藝,蒸鍍金作為電極;感濕膜為聚酰亞胺材料,采用旋涂的方法制備感濕層。

  濕敏薄膜制作:將合成的聚酰亞胺前軀體聚酰胺酸旋涂在基底上,放入高溫無氧烘箱中,100℃保溫30min,以5℃/min的升溫速度升至150-180℃,保溫30min;再以5℃/min的升溫速度升至220-250℃保溫30min,再以5℃/min的升溫速度升至280-300℃保溫1 h最后升至350-380℃保溫1 h,再以3-8℃/min的降溫速度降至50-100℃完成聚酰亞胺濕敏材料的固化,濕敏膜厚度2μm.

高溫無氧烘箱

工作室尺寸:W500mm×500mm×H500mm.可定制 

溫度范圍:RT+50~450℃  

分辨率:0.1℃

波動度:≤±1℃

溫度均勻度:≤±1.5%℃ 

潔凈度:Class100/class1000

升溫速率:1~10℃/min

降溫速率:高溫降溫至80度平均約4.0℃/min 

氧含量:≤20ppm  

操作方式:人機界面+PLC,程式工藝一鍵運行,可保存多個工藝


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